Chemical vapor phase precipitation of new materials for sub 50 nm transistors Chemische Dampfphasenabscheidung von neuen Materialien für Sub-50-nm-Transistoren

Frey L, Bauer A, Ryssel H (2005)

Publication Status: Published

Publication Type: Journal article, Original article

Publication year: 2005

Journal

Chemie Ingenieur Technik Wiley-VCH Verlag

Book Volume: 77

Pages Range: 1215-1216

Journal Issue: 8

DOI: 10.1002/cite.200590331

Authors with CRIS profile

Lothar Frey Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente Heiner Ryssel Technische Fakultät

Involved external institutions

Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB) DE Germany (DE)

How to cite

APA:

Frey, L., Bauer, A., & Ryssel, H. (2005). Chemical vapor phase precipitation of new materials for sub 50 nm transistors Chemische Dampfphasenabscheidung von neuen Materialien für Sub-50-nm-Transistoren. Chemie Ingenieur Technik, 77(8), 1215-1216. https://doi.org/10.1002/cite.200590331

MLA:

Frey, Lothar, Anton Bauer, and Heiner Ryssel. "Chemical vapor phase precipitation of new materials for sub 50 nm transistors Chemische Dampfphasenabscheidung von neuen Materialien für Sub-50-nm-Transistoren." Chemie Ingenieur Technik 77.8 (2005): 1215-1216.

BibTeX: Download