Optical Trap Assisted Nanopatterning: Process Parallelization and Dynamic Structure Generation

Beitrag in einer Fachzeitschrift
(Originalarbeit)


Details zur Publikation

Autorinnen und Autoren: Strauß J, Baum M, Alexeev I, Schmidt M
Zeitschrift: Journal of Laser Micro Nanoengineering
Jahr der Veröffentlichung: 2017
Band: 12
Heftnummer: 2
Seitenbereich: 86-90
ISSN: 1880-0688
Sprache: Englisch


Abstract


In this publication we present a novel setup for the Optical Trap Assisted Nanopatterning (OTAN) technology. The setup allows process parallelization and thus higher throughput in this inventive and flexible direct-nanopatterning technology. We have determined the stiffness of the optical traps and compared the obtained result with the single beam OTAN parameters. Furthermore we estimate the increase in throughput for the parallelized approach in comparison to the conventional system


FAU-Autorinnen und Autoren / FAU-Herausgeberinnen und Herausgeber

Alexeev, Ilya
Lehrstuhl für Photonische Technologien
Baum, Marcus
Lehrstuhl für Photonische Technologien
Schmidt, Michael Prof. Dr.-Ing.
Lehrstuhl für Photonische Technologien
Strauß, Johannes
Lehrstuhl für Photonische Technologien


Zusätzliche Organisationseinheit(en)
Lehrstuhl für Photonische Technologien
Erlangen Graduate School in Advanced Optical Technologies


Forschungsbereiche

Optische Technologien
Forschungsschwerpunkt einer Fakultät: Technische Fakultät


Zitierweisen

APA:
Strauß, J., Baum, M., Alexeev, I., & Schmidt, M. (2017). Optical Trap Assisted Nanopatterning: Process Parallelization and Dynamic Structure Generation. Journal of Laser Micro Nanoengineering, 12(2), 86-90. https://dx.doi.org/10.2961/jlmn.2017.02.0007

MLA:
Strauß, Johannes, et al. "Optical Trap Assisted Nanopatterning: Process Parallelization and Dynamic Structure Generation." Journal of Laser Micro Nanoengineering 12.2 (2017): 86-90.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-17-10 um 22:40