Analysis of the supercritical antisolvent mechanisms governing particles precipitation and morphology by in situ laser scattering techniques

Beitrag in einer Fachzeitschrift
(Originalarbeit)


Details zur Publikation

Autorinnen und Autoren: Bräuer A, Dowy S, Torino E, Roßmann M, Luther S, Schlücker E, Leipertz A, Reverchon E
Zeitschrift: Chemical Engineering Journal
Verlag: Elsevier
Jahr der Veröffentlichung: 2011
Band: 173
Seitenbereich: 258-266
ISSN: 1385-8947


FAU-Autorinnen und Autoren / FAU-Herausgeberinnen und Herausgeber

Bräuer, Andreas PD Dr.
Erlangen Graduate School in Advanced Optical Technologies
Leipertz, Alfred Prof. Dr.-Ing.
Lehrstuhl für Technische Thermodynamik
Luther, Sebastian
Lehrstuhl für Technische Thermodynamik
Roßmann, Matthias
Lehrstuhl für Prozessmaschinen und Anlagentechnik
Schlücker, Eberhard Prof. Dr.-Ing.
Lehrstuhl für Prozessmaschinen und Anlagentechnik


Einrichtungen weiterer Autorinnen und Autoren

Università degli Studi di Salerno


Zitierweisen

APA:
Bräuer, A., Dowy, S., Torino, E., Roßmann, M., Luther, S., Schlücker, E.,... Reverchon, E. (2011). Analysis of the supercritical antisolvent mechanisms governing particles precipitation and morphology by in situ laser scattering techniques. Chemical Engineering Journal, 173, 258-266.

MLA:
Bräuer, Andreas, et al. "Analysis of the supercritical antisolvent mechanisms governing particles precipitation and morphology by in situ laser scattering techniques." Chemical Engineering Journal 173 (2011): 258-266.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-10-08 um 06:13