Developement of atomic layer deposition processes for gallium oxide and indium oxide

Drittmittelfinanzierte Einzelförderung


Details zum Projekt

Projektleiter/in:


Beteiligte FAU-Organisationseinheiten:
Professur für Anorganische Chemie

Mittelgeber: Industrie (IMRA Europe)
Akronym: ALD Deposition
Projektstart: 01.06.2015
Projektende: 31.01.2016

Zuletzt aktualisiert 2019-01-02 um 11:24