In Situ Monitoring Technologies as Prospective Validation Tools for Numerical Simulations of Ammonothermal Crystal Growth

Schimmel S, Salamon M, Tomida D, Kobelt I, Heinlein L, Kimmel AC, Steigerwald T, Ishiguro T, Honda Y, Chichibu SF, Amano H, Schlücker E, Wellmann P (2022)

Publication Type: Conference contribution, Abstract of a poster

Publication year: 2022

Event location: Paris FR

Authors with CRIS profile

Saskia Schimmel Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente Lukas Heinlein Professur für Werkstoffwissenschaften (Werkstoffe der Elektrotechnik) Anna-Carina Kimmel Lehrstuhl für Prozessmaschinen und Anlagentechnik Thomas Steigerwald Lehrstuhl für Prozessmaschinen und Anlagentechnik Eberhard Schlücker Lehrstuhl für Prozessmaschinen und Anlagentechnik Peter Wellmann Professur für Werkstoffwissenschaften (Werkstoffe der Elektrotechnik)

Involved external institutions

Nagoya University / 名古屋大学 JP Japan (JP) Tohoku University JP Japan (JP) Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen (IIS) DE Germany (DE)

How to cite

APA:

Schimmel, S., Salamon, M., Tomida, D., Kobelt, I., Heinlein, L., Kimmel, A.-C.,... Wellmann, P. (2022). In Situ Monitoring Technologies as Prospective Validation Tools for Numerical Simulations of Ammonothermal Crystal Growth. Poster presentation at 7th European Conference on Crystal Growth, Paris, FR.

MLA:

Schimmel, Saskia, et al. "In Situ Monitoring Technologies as Prospective Validation Tools for Numerical Simulations of Ammonothermal Crystal Growth." Presented at 7th European Conference on Crystal Growth, Paris 2022.

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