Activity Titanium- and Tantalum-based CVD coatings

Internally funded project


Start date : 01.01.2000


Project details

Short description

Since Iron and Cobalt catalyse graphite formation during the CVD diamond deposition, high temperature intermediate layers are developed, which inhibit graphite forming on steel or hard metal surfaces. A special surface microstructure of the intermediate layer alloys a good mechanical adhesion with the subsequently growing diamond layer.

In the temperature range from 500 °C to 1100 °C, CVD deposition of metallic Titanium or Tantalum layers and their carbides, nitrides or borides are possible.

Coating examples:

Scientific Abstract

Da Eisen und Kobalt die Graphitbildung bei der Diamant-CVD katalysieren, wurden CVD-Hochtemperaturzwischenschichten auf Titan- und Tantalbasis entwickelt, die diese Graphit bildende chemische Wechselwirkung einer Stahl- oder Hartmetalloberfläche verhindert. Eine spezielle Oberflächen-Mikrostruktur der Zwischenschicht ermöglicht eine gute mechanische Verzahnung mit der nachträglich aufwachsenden Diamantschicht. Im Temperaturbereich von 500 °C bis 1100 °C ist die CVD Abscheidung von metallischen Titan- oder Tantalschichten bzw. von deren Karbiden, Nitriden oder Boriden möglich.

Anwendungsbeispiele:

Involved:

Contributing FAU Organisations:

Research Areas