Kristallisation amorpher SI-Schichten für die Displayherstellung
Urmoneit U, Eßer G, Christiansen S (2002)
Publication Type: Conference contribution
Publication year: 2002
Publisher: Meisenbach Verlag
Pages Range: 67-80
Conference Proceedings Title: Laser in der Elektronikproduktion und Feinwerktechnik LEF 2002
Event location: Bamberg
Additional Organisation(s)
Involved external institutions
Bayerisches Laserzentrum gemeinnützige Forschungsgesellschaft mbH (BLZ)
Germany (DE)
Max-Planck-Institut für die Physik des Lichts (MPL) / Max Planck Institute for the Science of Light
Germany (DE)
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Max-Planck-Institut für die Physik des Lichts (MPL) / Max Planck Institute for the Science of Light
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How to cite
APA:
Urmoneit, U., Eßer, G., & Christiansen, S. (2002). Kristallisation amorpher SI-Schichten für die Displayherstellung. In Geiger, M.; Fleckenstein, M. (Eds.), Laser in der Elektronikproduktion und Feinwerktechnik LEF 2002 (pp. 67-80). Bamberg: Meisenbach Verlag.
MLA:
Urmoneit, U., Gerd Eßer, and S. Christiansen. "Kristallisation amorpher SI-Schichten für die Displayherstellung." Proceedings of the Laser in der Elektronikproduktion und Feinwerktechnik LEF 2002, Bamberg Ed. Geiger, M.; Fleckenstein, M., Meisenbach Verlag, 2002. 67-80.
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