Finite integration (FI) method for modeling optical wavers in lithography masks

Beitrag bei einer Tagung
(Konferenzbeitrag)


Details zur Publikation

Autor(en): Erdmann A, Pflaum C, Rahimi Z
Jahr der Veröffentlichung: 2009
Tagungsband: 7th International Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
Seitenbereich: ?


FAU-Autoren / FAU-Herausgeber

Pflaum, Christoph Prof. Dr.
Professur für Informatik (Numerische Simulation mit Höchstleistungsrechnern)
Rahimi, Zhabiz
Graduiertenzentrum der FAU


Zusätzliche Organisationseinheit(en)
Erlangen Graduate School in Advanced Optical Technologies


Zitierweisen

APA:
Erdmann, A., Pflaum, C., & Rahimi, Z. (2009). Finite integration (FI) method for modeling optical wavers in lithography masks. In 7th International Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop (pp. ?). Hersbruck.

MLA:
Erdmann, Andreas, Christoph Pflaum, and Zhabiz Rahimi. "Finite integration (FI) method for modeling optical wavers in lithography masks." Proceedings of the 7th International Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop, Hersbruck 2009. ?.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-08-08 um 03:05