Finite integration (FI) method for modelling optical waves in lithography masks

Beitrag bei einer Tagung
(Konferenzbeitrag)


Details zur Publikation

Autor(en): Rahimi Z, Erdmann A, Pflaum C
Jahr der Veröffentlichung: 2009
Tagungsband: Proceedings of International Conference of "Electromagnetics in Advanced Applications", 2009. ICEAA '09
Seitenbereich: 809-812


FAU-Autoren / FAU-Herausgeber

Erdmann, Andreas PD Dr.
Technische Fakultät
Pflaum, Christoph Prof. Dr.
Professur für Informatik (Numerische Simulation mit Höchstleistungsrechnern)
Rahimi, Zhabiz
Graduiertenzentrum der FAU


Zusätzliche Organisationseinheit(en)
Erlangen Graduate School in Advanced Optical Technologies


Zitierweisen

APA:
Rahimi, Z., Erdmann, A., & Pflaum, C. (2009). Finite integration (FI) method for modelling optical waves in lithography masks. In Proceedings of International Conference of "Electromagnetics in Advanced Applications", 2009. ICEAA '09 (pp. 809-812). Turin.

MLA:
Rahimi, Zhabiz, Andreas Erdmann, and Christoph Pflaum. "Finite integration (FI) method for modelling optical waves in lithography masks." Proceedings of the ICEAA '09, Turin 2009. 809-812.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-09-08 um 22:25