Nanopositioning and Nanomeasuring Machine NPMM-200 - sub-nanometre resolution and highest accuracy in extended macroscopic working areas

Beitrag bei einer Tagung


Details zur Publikation

Autorinnen und Autoren: Manske E, Jäger G, Hausotte T, Müller A, Balzer F
Jahr der Veröffentlichung: 2017
Seitenbereich: 1-2


FAU-Autorinnen und Autoren / FAU-Herausgeberinnen und Herausgeber

Hausotte, Tino Prof. Dr.-Ing.
Lehrstuhl für Fertigungsmesstechnik


Einrichtungen weiterer Autorinnen und Autoren

Technische Universität Ilmenau


Zitierweisen

APA:
Manske, E., Jäger, G., Hausotte, T., Müller, A., & Balzer, F. (2017). Nanopositioning and Nanomeasuring Machine NPMM-200 - sub-nanometre resolution and highest accuracy in extended macroscopic working areas. In Proceedings of the euspen’s 17th International Conference & Exhibition (pp. 1-2). Hannover, DE.

MLA:
Manske, Eberhard, et al. "Nanopositioning and Nanomeasuring Machine NPMM-200 - sub-nanometre resolution and highest accuracy in extended macroscopic working areas." Proceedings of the euspen’s 17th International Conference & Exhibition, Hannover 2017. 1-2.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2019-23-07 um 09:38