Numerical modelling of the plasma source ion implantation process in 2D

Beitrag bei einer Tagung


Details zur Publikation

Autor(en): Stals L, Paulus M, Rauschenbach B, Rüde U
Jahr der Veröffentlichung: 1998
Tagungsband: Computational Techniques and Applications: CTAC97
Seitenbereich: 663--670


FAU-Autoren / FAU-Herausgeber

Rüde, Ulrich Prof. Dr.
Lehrstuhl für Informatik 10 (Systemsimulation)


Zitierweisen

APA:
Stals, L., Paulus, M., Rauschenbach, B., & Rüde, U. (1998). Numerical modelling of the plasma source ion implantation process in 2D. In Computational Techniques and Applications: CTAC97 (pp. 663--670). Singapore.

MLA:
Stals, Linda, et al. "Numerical modelling of the plasma source ion implantation process in 2D." Proceedings of the Computational Techniques and Applications: CTAC97, Singapore 1998. 663--670.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-19-09 um 14:38