Physical vapor deposition of [EMIM][Tf2N]: A new approach to the modification of surface properties with ultrathin ionic liquid films

Beitrag in einer Fachzeitschrift


Details zur Publikation

Autor(en): Cremer T, Killian M, Gottfried M, Paape N, Wasserscheid P, Maier F, Steinrück HP
Zeitschrift: Chemphyschem
Verlag: Wiley-Blackwell / Wiley-VCH Verlag
Jahr der Veröffentlichung: 2008
Band: 9
Heftnummer: 15
Seitenbereich: 2185-2190
ISSN: 1439-4235


Abstract


Ultrathin films of the ionic liquid (IL) 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide, [EMIM][TfN], are prepared on a glass substrate by means of an in situ thermal-evaporation/condensation process under ultrahigh-vacuum conditions. By using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), it is demonstrated that the first layer of the IL film grows two dimensionally, followed by the three-dimensional growth of successive layers. The first molecular layer consists of a bilayer, with the [EMIM] cations in contact to the surface and the [TfN] anions at the vacuum side. The ultrathin IL films are found to be stable under ambient conditions. © 2008 Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA.



FAU-Autoren / FAU-Herausgeber

Cremer, Till Dr.
Lehrstuhl für Physikalische Chemie II
Gottfried, Michael PD Dr.
Naturwissenschaftliche Fakultät
Killian, Manuela Dr.-Ing.
Lehrstuhl für Werkstoffwissenschaften (Korrosion und Oberflächentechnik)
Maier, Florian Dr.
Lehrstuhl für Physikalische Chemie II
Steinrück, Hans-Peter Prof. Dr.
Lehrstuhl für Physikalische Chemie II
Wasserscheid, Peter Prof. Dr.
Lehrstuhl für Chemische Reaktionstechnik


Zusätzliche Organisationseinheit(en)
Exzellenz-Cluster Engineering of Advanced Materials


Zitierweisen

APA:
Cremer, T., Killian, M., Gottfried, M., Paape, N., Wasserscheid, P., Maier, F., & Steinrück, H.-P. (2008). Physical vapor deposition of [EMIM][Tf2N]: A new approach to the modification of surface properties with ultrathin ionic liquid films. Chemphyschem, 9(15), 2185-2190. https://dx.doi.org/10.1002/cphc.200800300

MLA:
Cremer, Till, et al. "Physical vapor deposition of [EMIM][Tf2N]: A new approach to the modification of surface properties with ultrathin ionic liquid films." Chemphyschem 9.15 (2008): 2185-2190.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-08-08 um 23:08