Robust Two-Dimensional Electronic Properties in Three-Dimensional Microstructures of Rotationally Stacked Turbostratic Graphene

Beitrag in einer Fachzeitschrift
(Originalarbeit)


Details zur Publikation

Autor(en): Richter N, Hernandez YR, Schweitzer S, Kim JS, Patra AK, Englert J, Lieberwirth I, Liscio A, Palermo V, Feng X, Hirsch A, Muellen K, Klaeui M
Zeitschrift: Physical Review Applied
Verlag: American Physical Society
Jahr der Veröffentlichung: 2017
Band: 7
Heftnummer: 2
ISSN: 2331-7019


FAU-Autoren / FAU-Herausgeber

Englert, Jan
Lehrstuhl für Organische Chemie II
Hirsch, Andreas Prof. Dr.
Lehrstuhl für Organische Chemie II


Autor(en) der externen Einrichtung(en)
Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR)
Johannes Gutenberg-Universität Mainz
Max-Planck-Institut für Polymerforschung (MPI-P) / Max Planck Institute for Polymer Research
Universität Konstanz


Zitierweisen

APA:
Richter, N., Hernandez, Y.R., Schweitzer, S., Kim, J.-S., Patra, A.K., Englert, J.,... Klaeui, M. (2017). Robust Two-Dimensional Electronic Properties in Three-Dimensional Microstructures of Rotationally Stacked Turbostratic Graphene. Physical Review Applied, 7(2). https://dx.doi.org/10.1103/PhysRevApplied.7.024022

MLA:
Richter, Nils, et al. "Robust Two-Dimensional Electronic Properties in Three-Dimensional Microstructures of Rotationally Stacked Turbostratic Graphene." Physical Review Applied 7.2 (2017).

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-03-10 um 21:50