Arbeitsgebiet Titan und Tantal basierte CVD Beschichtungen

Eigenmittelfinanziertes Projekt


Details zum Projekt

Projektleiter/in:
PD Dr.-Ing. Stefan Rosiwal


Beteiligte FAU-Organisationseinheiten:
Lehrstuhl für Werkstoffwissenschaften (Werkstoffkunde und Technologie der Metalle)

Projektstart: 01.01.2000


Forschungsbereiche

Ultraharte Schichten
Lehrstuhl für Werkstoffwissenschaften (Werkstoffkunde und Technologie der Metalle)


Abstract (fachliche Beschreibung):


Da Eisen und Kobalt die Graphitbildung bei der Diamant-CVD katalysieren, wurden CVD-Hochtemperaturzwischenschichten auf Titan- und Tantalbasis entwickelt, die diese Graphit bildende chemische Wechselwirkung einer Stahl- oder Hartmetalloberfläche verhindert. Eine spezielle Oberflächen-Mikrostruktur der Zwischenschicht ermöglicht eine gute mechanische Verzahnung mit der nachträglich aufwachsenden Diamantschicht. Im Temperaturbereich von 500 °C bis 1100 °C ist die CVD Abscheidung von metallischen Titan- oder Tantalschichten bzw. von deren Karbiden, Nitriden oder Boriden möglich.



Anwendungsbeispiele:




  • TiNB-Zwischenschicht auf X46Cr13 zur optimalen Diamanthaftung.


  • TiB2 auf Graphitfasern zur Stabilisierung bei nachträglicher Zirkon-Schmelzinfiltration.


  • Ta auf Graphit zur Erhöhung der chemischen Stabilität.


Publikationen

Kütemeyer, M., Helmreich, T., Rosiwal, S., & Koch, D. (2018). Influence of zirconium-based alloys on manufacturing and mechanical properties of ultra high temperature ceramic matrix composites. Advances in Applied Ceramics, 117(sup1: UHTC IV), 62-69. https://dx.doi.org/10.1080/17436753.2018.1509810
Kütemeyer, M., Schomer, L., Helmreich, T., Rosiwal, S., & Koch, D. (2016). Fabrication of ultra high temperature ceramic matrix composites using a reactive melt infiltration process. Journal of the European Ceramic Society, 36(15), 3647-3655. https://dx.doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2016.04.039

Zuletzt aktualisiert 2018-21-11 um 13:27