Internally funded project
Start date : 01.01.2000
Since Iron and Cobalt catalyse graphite formation during the CVD diamond deposition, high temperature intermediate layers are developed, which inhibit graphite forming on steel or hard metal surfaces. A special surface microstructure of the intermediate layer alloys a good mechanical adhesion with the subsequently growing diamond layer.
In the temperature range from 500 °C to 1100 °C, CVD deposition of metallic Titanium or Tantalum layers and their carbides, nitrides or borides are possible.
Coating examples:
Da Eisen und Kobalt die Graphitbildung bei der Diamant-CVD katalysieren, wurden CVD-Hochtemperaturzwischenschichten auf Titan- und Tantalbasis entwickelt, die diese Graphit bildende chemische Wechselwirkung einer Stahl- oder Hartmetalloberfläche verhindert. Eine spezielle Oberflächen-Mikrostruktur der Zwischenschicht ermöglicht eine gute mechanische Verzahnung mit der nachträglich aufwachsenden Diamantschicht. Im Temperaturbereich von 500 °C bis 1100 °C ist die CVD Abscheidung von metallischen Titan- oder Tantalschichten bzw. von deren Karbiden, Nitriden oder Boriden möglich.
Anwendungsbeispiele: