Atomic Layer Deposition of Antimony Oxide and Antimony Sulfide

Beitrag in einer Fachzeitschrift
(Originalarbeit)


Details zur Publikation

Autor(en): Yang RB, Bachmann J, Reiche M, Gerlach JW, Goesele U, Nielsch K
Zeitschrift: Chemistry of Materials
Verlag: American Chemical Society
Jahr der Veröffentlichung: 2009
Band: 21
Seitenbereich: 2586-2588
ISSN: 0897-4756


FAU-Autoren / FAU-Herausgeber

Bachmann, Julien Prof.
Lehrstuhl für Chemistry of thin film materials


Autor(en) der externen Einrichtung(en)
Leibniz-Institute für Oberflächenmodifizierung e. V. (IOM) / Leibniz Institute of Surface Modification
Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik (MSP) / Max Planck Institute for Microstructure Physics
Universität Hamburg


Zitierweisen

APA:
Yang, R.B., Bachmann, J., Reiche, M., Gerlach, J.W., Goesele, U., & Nielsch, K. (2009). Atomic Layer Deposition of Antimony Oxide and Antimony Sulfide. Chemistry of Materials, 21, 2586-2588. https://dx.doi.org/10.1021/cm900623v

MLA:
Yang, Ren Bin, et al. "Atomic Layer Deposition of Antimony Oxide and Antimony Sulfide." Chemistry of Materials 21 (2009): 2586-2588.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-06-07 um 07:23