Erratum to "advanced thin film technology for ultrahigh resolution X-ray microscopy" [Ultramicroscopy 109 (2009) 1360-1364] (DOI:10.1016/j.ultramic.2009.07.005)

Beitrag in einer Fachzeitschrift
(Erratum)


Details zur Publikation

Autorinnen und Autoren: Vila-Comamala J, Jefimovs K, Raabe J, Pilvi T, Fink R, Senoner M, Maassdorf A, Ritala M, David C
Zeitschrift: Ultramicroscopy
Verlag: Elsevier
Jahr der Veröffentlichung: 2010
Band: 110
Heftnummer: 2
ISSN: 0304-3991


FAU-Autorinnen und Autoren / FAU-Herausgeberinnen und Herausgeber

Fink, Rainer Prof. Dr.
Professur für Physikalische Chemie


Einrichtungen weiterer Autorinnen und Autoren

Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM)
Eidgenössische Materialprüfungs- und Forschungsanstalt (Empa) / Swiss Federal Laboratories for Materials Science & Technology
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH)
Helsingin yliopisto / University of Helsinki
Paul Scherrer Institute (PSI)


Zitierweisen

APA:
Vila-Comamala, J., Jefimovs, K., Raabe, J., Pilvi, T., Fink, R., Senoner, M.,... David, C. (2010). Erratum to "advanced thin film technology for ultrahigh resolution X-ray microscopy" [Ultramicroscopy 109 (2009) 1360-1364] (DOI:10.1016/j.ultramic.2009.07.005). Ultramicroscopy, 110(2). https://dx.doi.org/10.1016/j.ultramic.2009.11.012

MLA:
Vila-Comamala, Joan, et al. "Erratum to "advanced thin film technology for ultrahigh resolution X-ray microscopy" [Ultramicroscopy 109 (2009) 1360-1364] (DOI:10.1016/j.ultramic.2009.07.005)." Ultramicroscopy 110.2 (2010).

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2019-13-04 um 14:51