Stoichiometry of Nickel Oxide Films Prepared by ALD

Beitrag in einer Fachzeitschrift
(Originalarbeit)


Details zur Publikation

Autor(en): Bachmann J, Zolotaryov A, Albrecht O, Goetze S, Berger A, Hesse D, Novikov D, Nielsch K
Zeitschrift: Chemical Vapor Deposition
Verlag: Wiley-VCH Verlag
Jahr der Veröffentlichung: 2011
Band: 17
Seitenbereich: 177-+
ISSN: 0948-1907


Abstract


Communication: Nickel oxide films obtained from nickelocene and ozone by atomic layer deposition at 230 degrees C are substoichiometric, but have the crystal structure of NiO. Oxygen can be driven out of the solid by annealing under inert atmosphere, or added into it via aerobic annealing.



FAU-Autoren / FAU-Herausgeber

Bachmann, Julien Prof.
Lehrstuhl für Chemistry of thin film materials


Autor(en) der externen Einrichtung(en)
Deutsches Elektronen-Synchrotron DESY
Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik (MSP) / Max Planck Institute for Microstructure Physics
Universität Hamburg


Zitierweisen

APA:
Bachmann, J., Zolotaryov, A., Albrecht, O., Goetze, S., Berger, A., Hesse, D.,... Nielsch, K. (2011). Stoichiometry of Nickel Oxide Films Prepared by ALD. Chemical Vapor Deposition, 17, 177-+. https://dx.doi.org/10.1002/cvde.201004300

MLA:
Bachmann, Julien, et al. "Stoichiometry of Nickel Oxide Films Prepared by ALD." Chemical Vapor Deposition 17 (2011): 177-+.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2018-11-08 um 03:01