Molecular Layer Deposition from Dissolved Precursors

Beitrag in einer Fachzeitschrift
(Originalarbeit)


Details zur Publikation

Autorinnen und Autoren: Fichtner J, Wu Y, Hitzenberger J, Drewello T, Bachmann J
Zeitschrift: ECS Journal of Solid State Science and Technology
Verlag: ELECTROCHEMICAL SOC INC
Jahr der Veröffentlichung: 2017
Band: 6
Heftnummer: 9
Seitenbereich: N171-N175
ISSN: 2162-8769


Abstract


We present a procedure for growing thin films of an organic polyamid material based on a cyclic repetition of two consecutive, complementary, self-limiting surface reactions. The molecular compounds that react with the surface are dissolved in an organic solvent. This new method exemplifies how atomic layer deposition (ALD) and molecular layer deposition (MLD) can benefit from being transferred from the gas phase to the liquid phase, given that a broad variety of advantageous reagents are only available in dissolved form. (c) The Author(s) 2017. Published by ECS. All rights reserved.


FAU-Autorinnen und Autoren / FAU-Herausgeberinnen und Herausgeber

Bachmann, Julien Prof.
Lehrstuhl für Chemistry of thin film materials
Drewello, Thomas Prof. Dr.
Professur für Physikalische Chemie
Fichtner, Johannes
Lehrstuhl für Anorganische und Allgemeine Chemie
Hitzenberger, Jakob
Professur für Physikalische Chemie
Wu, Yanlin
Lehrstuhl für Anorganische und Allgemeine Chemie


Zitierweisen

APA:
Fichtner, J., Wu, Y., Hitzenberger, J., Drewello, T., & Bachmann, J. (2017). Molecular Layer Deposition from Dissolved Precursors. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 6(9), N171-N175. https://dx.doi.org/10.1149/2.0291709jss

MLA:
Fichtner, Johannes, et al. "Molecular Layer Deposition from Dissolved Precursors." ECS Journal of Solid State Science and Technology 6.9 (2017): N171-N175.

BibTeX: 

Zuletzt aktualisiert 2019-18-03 um 10:23