Topology-Driven Reductive Silylation of Synthetic Carbon Allotropes

Knirsch K, Hof F, Lloret Segura VJ, Mundloch U, Hauke F, Hirsch A (2016)

Publication Status: Published

Publication Type: Journal article, Original article

Publication year: 2016

Journal

Journal of the American Chemical Society American Chemical Society

Publisher: American Chemical Society

Book Volume: 138

Pages Range: 15642-15647

Journal Issue: 48

DOI: 10.1021/jacs.6b09487

Authors with CRIS profile

Kathrin Knirsch Lehrstuhl für Organische Chemie II Ferdinand Hof Lehrstuhl für Organische Chemie II Vicente Josep Lloret Segura Lehrstuhl für Organische Chemie II Udo Mundloch Lehrstuhl für Organische Chemie II Frank Hauke Lehrstuhl für Organische Chemie II Andreas Hirsch Lehrstuhl für Organische Chemie II

How to cite

APA:

Knirsch, K., Hof, F., Lloret Segura, V.J., Mundloch, U., Hauke, F., & Hirsch, A. (2016). Topology-Driven Reductive Silylation of Synthetic Carbon Allotropes. Journal of the American Chemical Society, 138(48), 15642-15647. https://dx.doi.org/10.1021/jacs.6b09487

MLA:

Knirsch, Kathrin, et al. "Topology-Driven Reductive Silylation of Synthetic Carbon Allotropes." Journal of the American Chemical Society 138.48 (2016): 15642-15647.

BibTeX: Download